第五百七十五章：设备

 在繁荣的经济发展阳光之下，是大夏联邦的高精尖科技一直都被西方企业“严防死守”。

 当初开发芯片设计项目，这些大夏联邦的高校教授和海归员工们还能够提建议，给素材，但是当科技进步的步伐来到了半导体产业的光刻机设备和光源技术的开发时，已然步履维艰。

 要达到国际先进制造水平，并不是一日之功可毕。

 周瑜虽然一直不想过多参与半导体行业的技术发展当中，但是随着国外实验室数据和技术方案给出的技术级别已经达到世界先进水平后，他已然没有办法“坐以待毙”。

 毕竟国外实验室并非是阿拉丁神灯，不可能存在项目都还没有做，就冒出数据和方案的情况。

 而且再进一步，就是真的技术革新了，国外顶级实验室要是有这技术，不早就成立公司开始赚大钱了？

 所以在陆续的交流合作当中，周瑜开始逐渐展露其在高精尖制造领域的敏锐嗅觉和天才想法。

 “阿斯麦公司的euv光刻机，采用的是高能脉冲激光轰击液态锡靶，形成等离子体，诞生波长13.5纳米的euv光源，根据这份数据，其至少有250瓦的功率。

 随着半导体芯片工艺的制程越来越小，euv光刻机的光源功率也必定会逐步上升，别看现在才两百多瓦，后续很可能达到千瓦级别。

 我们要想在稳态微聚束光的ssbm光源上面做文章，除了深入研究这些理论数据之外，还要必须进行足够多的实验，才能够发展技术，超越国外那些机构实验室！

 而且稳态微聚束光的ssbm光源上升潜力比euv光源更大，并且具备向更短波长扩展的能力。

 下个月，新的设备和资金就能到位，到时候咱们就一边学，一边做实验，绝对能够攻破难关！”

 钱，大夏新科现在是不缺的。

 人，在人力资源部门全球疯跑，高校师生们的共同努力下，虽然还有缺口，但是缺口并不算太大。