重生世界工业之巅二磕
第五百七十一章:光刻机区别(第3页)
光刻机之所以会被行业内外人士称为“光刻机”,其实是一个很生动具体的称呼,它就是利用光的特殊原理,雕刻芯片的高精尖机器。
光,在这台机器上,就是手术刀,就是工兵最需要的利器。
李贤审目光凝重道:“据说,荷兰阿斯麦公司将要卖给台积电的euv光刻机所用的光源是
极紫外光源,这个光源制造出来的euv光刻机,不仅可以轻松制造出台积电制程标准的10纳米芯片,或许,如果台积电的工程师足够激进的话,恐怕几年内,就可能将其推进到10纳米以下的高性能芯片。”
杨刚省也在一旁说道:“这件事情,我还算比较清楚,因为光刻胶在这两者的应用也不一样。
荷兰阿斯麦公司联合全球一众科学家、工程师,搞出来的这台euv光刻机,据说其使用的极深紫外线,其光源波长为13.5纳米。
而现在夏芯国际还在使用的duv光刻机,则是使用的深紫外线,其光源波长为193纳米。
euv光刻机的光源是通过激光激发等离子体来发射euv光子,而duv光刻机的光源为准分子激光。因为光源产生方式的不同,所以我们也要开发不同类型的专用光刻胶。
并且除此之外,我们的晶圆工艺也需要提升,否则芯片良品率会差许多。”
有这两位开口,其他人也是群策群力,提供着自己的情报。
“以前我听西工大的教授说起过,这两种光刻机的光路系统设计都非常不同。
euv光刻机利用的是光的反射原理,并且内部必须是真空操作,不能够有空气和杂物。而duv光刻机主要利用光的折射原理,透镜和晶圆之间可以采用不同的介质来改变光刻性能,我们大夏联邦已经有光刻机研发机构,快要突破duv光刻机的光源设备、透镜工艺了。”